本发明涉及一种磷化铟基双异质结双极晶体管结构及制备方法,其特征在于所述结构依次由半绝缘的InP衬底、外延缓冲层、腐蚀截止层、亚集电极层、集电极层、渐变基极层、发射极层和盖层组成;制备特征在于:(1)将InP(100)衬底送入气态源分子束外延系统GSMBE的预处理室,于300‑350℃除气;(2)将上述衬底传递至GSMBE的生长室,生长前的衬底表面解析,解析是在As气氛下加热至解析温度,去除表面氧化层,然后将PH3于1000℃进行裂解,得到P2用作Ps源,调节气源炉PH3压力PV为450~700Torr;(3)衬底在P气氛的保护下进行生长前的表面解吸,衬底温度于400℃下进行外延生长,生长时衬底以每分钟5转的速度旋转,以保证外延材料的均匀性。
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