一种基于溶胶射流靶的LPP‑EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射‑循环装置、LPP‑EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射‑循环装置而在LPP‑EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵浦激光源输出泵浦激光，进入LPP‑EUV发生装置后作用于溶胶射流靶。本发明基于溶胶射流靶增强LPP‑EUV光源的可靠性与稳定性，为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障。
中国科学院上海光学精密机械研究所
张宗昕 | 冷雨欣 | 王成 | 赵全忠 | 王关德 | 程欣 | 李儒新
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2023年11月24日
