一种基于光刻胶材料的超构表面

本发明公开了一种基于光刻胶材料的超构表面，其特征在于，所述超构表面采用光刻胶材料构建，所述超构表面的基本结构为微纳阵列结构，所述微纳阵列结构由基本单元组成，所述超构表面由所述基本结构进行周期性延伸形成。与传统的由TiO2、Si或GaN等高折射率介电质材料组成的超构表面不同，本发明提供了一种由光刻胶材料组成的超构表面，经实验证明，在改变超构表面材料的前提下，也可以加工出亚微米级别高深宽比的结构阵列，且能达到由Si等传统材料构成超构表面所要实现的效果，拓宽了材料的选择性。