一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用

本发明公开了一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用。所述抗原子氧水滑石涂层包括：形成在聚合物基体表面的由水滑石纳米片或类水滑石纳米片中至少一种和硅烷偶联剂交联形成的多孔涂层。与目前常规致密的抗原子氧涂层不同，本发明所涉及的涂层由防护单元水滑石或类水滑石纳米片与氨烃基硅烷偶联剂共同构成，具有纳米片取向高度一致的叠层排列形成的非致密微纳结构，可以防止内应力作用而开裂；同时交联剂氨烃基硅烷偶联剂能增强涂层与基体间的界面附着力，防止剥脱现象的发生。该涂层主体为无机水滑石或类水滑石纳米片层，原料价格低廉、工艺简捷、操作方便，且抗原子氧/防剥落开裂性能优异，可广泛应用于航天领域。
中国科学院上海硅酸盐研究所
谷红宇 | 唐登航 | 章俞之 | 张锦麟 | 吕少波 | 马佳玉 | 宋力昕