一种高功率EUV光刻光源的双脉冲驱动光源

本发明涉及激光技术领域，公开了一种高功率EUV光刻光源的双脉冲驱动光源，波长范围为1800～2500nm，使用掺Tm材料作为激光增益介质，包括脉冲种子源、脉冲选择器、脉冲分束装置、脉冲延时装置、脉冲整形器和激光脉冲放大系统，其中脉冲种子源包括锁模振荡器和纳秒脉冲种子源。驱动光源输出的双脉冲可由同一脉冲种子源产生，通过脉冲分束装置和脉冲延时装置实现时间延时可调的双脉冲输出，驱动光源的激光脉冲放大系统包括至少一级脉冲放大器，并且可通过脉冲展宽器和脉冲压缩器调节脉冲宽度。驱动源输出的双脉冲也可以分别由不同脉冲种子源产生，脉冲序列通过脉冲选择器降低至合适重频后，利用脉冲延时装置实现双脉冲的延时输出，激光脉冲放大系统包括至少一级脉冲放大器，并且可通过脉冲展宽器和脉冲压缩器调节脉冲宽度。本发明通过利用高功率2μm波段全固态激光器高平均功率、高插墙效率、小装置体积等特性，替代目前作为驱动光源的CO2激光器，获得更高的平均功率输出，提升激发EUV辐射的功率，解决EUV光刻机芯片产量提升的问题。
中国科学院上海光学精密机械研究所
徐岩 | 林楠 | 冷雨欣 | 邵建达