一种高温同步补偿薄膜应变计及其制备方法

本发明提供一种高温同步补偿薄膜应变计及其制备方法，所述应变计以高温合金构件为基底，在基底上先磁控溅射过渡层合金并高温氧化生成薄层氧化铝薄膜，再双离子束溅射沉积氧化铝绝缘薄膜，在绝缘薄膜上射频磁控溅射沉积悬空补偿层支柱，PdCr应变层、悬空补偿PdCr应变层，溅射Cr然后高温氧化形成Cr2O3保护层。本发明适用于在构件工作过程中的实时测量；采用通用MEMS图形化工艺，溅射PdCr做应变层，制备悬空的PdCr应变层来进行温度补偿，补偿了温度变化对构件应变测量的影响，提高了应变计的测量精度，尤其是高温测量精度大大提高；采用磁控溅射Cr保护层高温钝化后结构致密、结合力好，对功能结构起到保护作用。
上海交通大学
张丛春 | 杨伸勇 | 丁桂甫 | 李娟