本发明提供一种高速低功耗相变存储器单元及其制备方法,用于提升相变存储器中相变存储单元的操作速度,降低相变存储单元的操作功耗;其特征在于采用微纳加工技术(如聚焦离子束,FIB)去除一部分与加热电极相接触的相变材料层。本发明缩小了相变材料层的体积,使其与加热电极的接触面积极大的减小,三维纳米尺度得存储单元制备得以实现,使存储性能实现高速低功耗。在三维存储单元实现稳定工艺与稳定性能的基础上,在一个相同的底电极上进一步制备出4个及4个以上同等尺寸的存储单元,研究40纳米以下技术节点的高密度存储特性的串扰与存储特性,本发明可直接用于指导工程化相变存储芯片的设计、工艺、测试等,是研发与工程化联系的桥梁。
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
宋志棠 | 吴良才 | 周夕淋 | 吕士龙
