本发明属于材料制备技术领域,具体涉及一种利用旋转掩膜生长高通量薄膜材料的方法。本发明包括以下步骤:在超高真空条件下,将衬底置于掩膜结构中,其中,掩膜结构设置有开口,衬底位于开口的正下方;将掩膜结构置于超高真空蒸镀设备中,采用真空蒸镀法,根据薄膜材料的组分,将对应的组分通过开口对掩膜结构中的衬底依次蒸发沉积,蒸发沉积后对掩膜结构进行旋转,再进行下一次蒸发沉积;其中,下一次蒸发沉积的组分与上一次蒸发沉积的所有组分均部分重叠,直至所有组分蒸发沉积结束,得到薄膜材料。本发明的旋转掩膜法操作简单,通过在一个衬底上沉积多种组分组合的薄膜材料,降低重复人工操纵,提升实验成功率。
上海大学
李易璋 | 张欣怡 | 陆佳宜 | 杨泰然 | 向娟 | 黄琦 | 李蝉羽 | 孙强
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