聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用

本发明涉及聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用。所述聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层包含C、O、Si，以及Ti、Zn、Ce、Fe中的一种或多种元素组成；优选包含Si‑O‑Si、Si‑O‑Ti、Ti‑O‑Ti、Si‑O‑Zn、Zn‑O‑Zn中至少一种骨架构成的有机‑无机杂化材料。
中国科学院上海硅酸盐研究所
谷红宇 | 吕少波 | 张锦麟 | 章俞之 | 宋力昕