在基底上形成图案的方法及其应用

本申请涉及一种在基底上形成图案的方法及其应用。具体地，本申请的方法包括如下步骤：(a)将光敏材料和聚合物在溶剂中的溶液施涂于所述基底上并干燥，从而形成涂膜，其中所述光敏材料在紫外光照射下可直接发生光化学反应；以及(b)穿过非接触式掩模，对所述涂膜进行紫外光照射，在照射过程中，所述光敏材料从涂膜的非曝光区迁移至曝光区，使得所述曝光区按照所述掩模版的图案进行生长，从而在所述涂膜上形成所述图案。而且，根据本发明的方案尤其适于体光栅的制备和芯片的图案化封装。